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針對多晶硅還原爐電極銀涂層的制備瓶頸，采用冷噴涂技術開發高性能純銀涂層，提高了電極的導電性。同時，涂層厚度不受限制，結合力強，可減少以至于消除電極的雜質析出，壽命大幅延長，從3個月提高到超過3年，進而可保證多晶硅制備的純度與效率。另外，冷噴涂工藝還可對已受損的電極進行修復，從而實現電極再制造。在其他工業領域中，已經實現冷噴涂技術對零部件的再制造，與制造新品相比，不但可節省成本50％、節材70％，且再制造產品已接近或超過原有新品的質量和性能。因此，冷噴技術有望成為制備多晶硅反應爐銀涂層電極、修復局部失效電極的有效手段，具備非常好的市場應用前景。